한국화학연구원

사업장명	한국화학연구원
소재지전체주소
도로명전체주소	대전광역시 유성구 가정로 111 (신성동)
인허가일자	2014년 02월 10일 (10년 전)
사용목적	반도체 박막형성 공정가스
사용방법	화학적기상 증착
수용정원수	3
월사용량	165.27

목록

최근 조회 목록